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1、只需要進(jìn)行簡(jiǎn)單的改造就可以提高現有設備的除氟效率。

2、通過(guò)簡(jiǎn)單的工藝改造還可以實(shí)現氟、磷的同時(shí)去除。

3、方法簡(jiǎn)單、工藝可靠、既能提高處理效率又可減少加藥量。

本系統有關(guān)參數：停留時(shí)間：晶種預制槽10-60分。反應槽20-40分。加藥量：氟離子濃度+300mg/l鈣離子。

含氟廢水的處理存在出水水質(zhì)不穩定、藥劑使用量過(guò)多、污泥發(fā)生量多且含水率高等問(wèn)題。特別是隨著(zhù)近年電子信息產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展以及國際環(huán)境標準ISO14000在世界范圍內得到普遍的認可，從根本上解決含氟廢水的處理問(wèn)題已成為以大規模集成回路和液晶顯示器等電子元件為代表的現代電子工業(yè)的一個(gè)重要的任務(wù)。

中國科學(xué)院生態(tài)環(huán)境研究中心研究人員在國外工作期間對常規的石灰法除氟技術(shù)進(jìn)行了系統細致的研究，發(fā)現氟化鈣沉淀的生成不是單純地受溶度積的支配。實(shí)驗結果證明，氟化鈣沉淀的生成實(shí)際上是氟化鈣晶體的形成的過(guò)程，在反應初期，特別是在原水濃度相對較低的情況下，能否形成有充分數量的晶種是決定含氟廢水處理成敗的關(guān)鍵。研究發(fā)現，可以按照結晶理論通過(guò)設置預制晶種的步驟，也就是所謂的原水分段注入法（已申請日本專(zhuān)利）達到大幅度提高含氟廢水處理效率的目的。由于該方法在不改變添加藥品的種類(lèi)，不增加藥品使用量的情況下能顯著(zhù)提高除氟效率，該方法在舊廠(chǎng)改造以及新廠(chǎng)建設中都不斷得到實(shí)際應用（在日本有十幾例應用）。該技術(shù)曾在每年一度的日本半導體展覽會(huì )上得到展出。